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9.「2026 江苏扬州中学教育集团树人学校期中改编，★☆」根据信息完成下列小题。
(1)陶瓷烧制过程中,若坯料中铁粉未被除尽,则烧制后的陶瓷上会有黑点(成分是四氧化三铁),生成黑点的化学方程式为
(2)制备氮化硅($\ce{Si_{3}N_{4}}$)陶瓷的原理为二氧化硅、碳和氮气在高温下反应生成氮化硅和一氧化碳,该反应的化学方程式为
(3)酵母菌将葡萄糖($\ce{C_{6}H_{12}O_{6}}$)转化为酒精($\ce{C_{2}H_{5}OH}$)和一种能使澄清石灰水变浑浊的气体,写出该反应的化学方程式:
(4)已知氮化镁($\ce{Mg_{3}N_{2}}$)和水在常温下反应生成氢氧化镁沉淀和氨气,写出该反应的化学方程式:
(5)自来水厂通常利用氯气与水反应生成盐酸和次氯酸($\ce{HClO}$)的原理进行杀菌消毒,氯气与水反应的化学方程式为
(6)碳酸锌高温会分解生成氧化锌和另一种氧化物,写出该反应的化学方程式:
(1)陶瓷烧制过程中,若坯料中铁粉未被除尽,则烧制后的陶瓷上会有黑点(成分是四氧化三铁),生成黑点的化学方程式为
$\ce{3Fe + 2O_{2}\xlongequal{高温} Fe_{3}O_{4}}$
。(2)制备氮化硅($\ce{Si_{3}N_{4}}$)陶瓷的原理为二氧化硅、碳和氮气在高温下反应生成氮化硅和一氧化碳,该反应的化学方程式为
$\ce{3SiO_{2} + 6C + 2N_{2}\xlongequal{高温} Si_{3}N_{4} + 6CO}$
。(3)酵母菌将葡萄糖($\ce{C_{6}H_{12}O_{6}}$)转化为酒精($\ce{C_{2}H_{5}OH}$)和一种能使澄清石灰水变浑浊的气体,写出该反应的化学方程式:
$\ce{C_{6}H_{12}O_{6}\xlongequal{酵母菌} 2C_{2}H_{5}OH + 2CO_{2}\uparrow}$
。(4)已知氮化镁($\ce{Mg_{3}N_{2}}$)和水在常温下反应生成氢氧化镁沉淀和氨气,写出该反应的化学方程式:
$\ce{Mg_{3}N_{2} + 6H_{2}O = 3Mg(OH)_{2} \downarrow + 2NH_{3}\uparrow}$
。(5)自来水厂通常利用氯气与水反应生成盐酸和次氯酸($\ce{HClO}$)的原理进行杀菌消毒,氯气与水反应的化学方程式为
$\ce{Cl_{2} + H_{2}O = HClO + HCl}$
。(6)碳酸锌高温会分解生成氧化锌和另一种氧化物,写出该反应的化学方程式:
$\ce{ZnCO_{3}\xlongequal{高温} ZnO + CO_{2}\uparrow}$
。答案
9.答案
（1）$3Fe+2O_2\xlongequal{高温}Fe_3O_4$
（2）$3SiO_2+6C+2N_2\xlongequal{高温}Si_3N_4+6CO$
（3）$C_6H_{12}O_6\xlongequal{酵母菌}2C_2H_5OH+2CO_2\uparrow$
（4）$Mg_3N_2 +6H_2O = 3Mg(OH)_2 \downarrow +2NH_3\uparrow$
（5）$Cl_2+H_2O= HClO+HCl$
（6）$ZnCO_3\xlongequal{高温}ZnO+CO_2\uparrow$
（1）$3Fe+2O_2\xlongequal{高温}Fe_3O_4$
（2）$3SiO_2+6C+2N_2\xlongequal{高温}Si_3N_4+6CO$
（3）$C_6H_{12}O_6\xlongequal{酵母菌}2C_2H_5OH+2CO_2\uparrow$
（4）$Mg_3N_2 +6H_2O = 3Mg(OH)_2 \downarrow +2NH_3\uparrow$
（5）$Cl_2+H_2O= HClO+HCl$
（6）$ZnCO_3\xlongequal{高温}ZnO+CO_2\uparrow$
10. 情境 素材 科技成就 芯片被称为现代工业的粮食,在科技创新领域我国正阔步前行、厚积薄发。
(1)我国某科技有限公司正式量产第一代微型高光谱MEMS(微机电系统)芯片,填补了国内在这个高精尖领域的空白,该芯片广泛采用硅(Si)作为晶圆衬底材料,硅(Si)生产过程如图所示。
①“冶炼炉”中发生的反应是$\ce{SiO_{2} + 2C\xlongequal{高温} Si + 2CO↑}$,其中化合价发生改变的元素是
②粗硅在“转化炉”中发生的反应是$\ce{Si + 3HCl\xlongequal{300℃} SiHCl_{3} + }$
③三氯硅烷($\ce{SiHCl_{3}}$)和氢气在“纯化炉”中反应获得超纯硅,该反应的化学方程式是
(2)我国已经推出了3 nm芯片蚀刻机。芯片蚀刻过程中,三氟化氮气体与硅反应时生成的物质均为气体,其微观反应示意图如图所示。下列描述不正确的有
a.从守恒关系看:反应前后原子种类和数目均不变
b.从物质构成看:甲、乙、丙、丁四种物质均由分子构成
c.从宏观组成看:甲和丙的组成元素不完全相同
d.从表示方法看:反应的化学方程式为$\ce{4NF_{3} + 3Si\xlongequal{一定条件} 3SiF_{4} + 2N_{2}↑}$
(1)我国某科技有限公司正式量产第一代微型高光谱MEMS(微机电系统)芯片,填补了国内在这个高精尖领域的空白,该芯片广泛采用硅(Si)作为晶圆衬底材料,硅(Si)生产过程如图所示。
①“冶炼炉”中发生的反应是$\ce{SiO_{2} + 2C\xlongequal{高温} Si + 2CO↑}$,其中化合价发生改变的元素是
硅元素、碳元素
。②粗硅在“转化炉”中发生的反应是$\ce{Si + 3HCl\xlongequal{300℃} SiHCl_{3} + }$
$\ce{H_2}$
。③三氯硅烷($\ce{SiHCl_{3}}$)和氢气在“纯化炉”中反应获得超纯硅,该反应的化学方程式是
$\ce{SiHCl_{3} + H_{2}\xlongequal{高温} Si + 3HCl}$
。(2)我国已经推出了3 nm芯片蚀刻机。芯片蚀刻过程中,三氟化氮气体与硅反应时生成的物质均为气体,其微观反应示意图如图所示。下列描述不正确的有
bd
(填字母)。a.从守恒关系看:反应前后原子种类和数目均不变
b.从物质构成看:甲、乙、丙、丁四种物质均由分子构成
c.从宏观组成看:甲和丙的组成元素不完全相同
d.从表示方法看:反应的化学方程式为$\ce{4NF_{3} + 3Si\xlongequal{一定条件} 3SiF_{4} + 2N_{2}↑}$
答案
10.答案
（1）①硅元素、碳元素 ②$H_2$ ③$SiHCl_3 + H_2\xlongequal{高温}Si+3HCl$ （2）bd
解析 （1）①$SiO_2 + 2C\xlongequal{高温}Si + 2CO\uparrow$中,反应前$SiO_2$中硅元素的化合价为+4价,C中碳元素的化合价为0,反应后Si中硅元素的化合价为0,CO中碳元素的化合价为+2价,氧元素的化合价在反应前后没有发生改变。(2)由反应的微观示意图可知,甲为三氟化氮、乙为硅、丙为四氟化硅、丁为氮气,其中三氟化氮、四氟化硅、氮气均由分子构成,硅由硅原子构成;根据题意可知,三氟化氮气体与硅反应生成的物质均为气体,则在化学方程式中$N_2$后不需要标注气体符号。
（1）①硅元素、碳元素 ②$H_2$ ③$SiHCl_3 + H_2\xlongequal{高温}Si+3HCl$ （2）bd
解析 （1）①$SiO_2 + 2C\xlongequal{高温}Si + 2CO\uparrow$中,反应前$SiO_2$中硅元素的化合价为+4价,C中碳元素的化合价为0,反应后Si中硅元素的化合价为0,CO中碳元素的化合价为+2价,氧元素的化合价在反应前后没有发生改变。(2)由反应的微观示意图可知,甲为三氟化氮、乙为硅、丙为四氟化硅、丁为氮气,其中三氟化氮、四氟化硅、氮气均由分子构成,硅由硅原子构成;根据题意可知,三氟化氮气体与硅反应生成的物质均为气体,则在化学方程式中$N_2$后不需要标注气体符号。
