阅读选文,完成1~4题。
1.请简要梳理第①~⑦段的说明内容。
首先由芯片引出说明对象——光刻机;接着介绍什么是光刻机及A.;然后分别介绍三类光刻机的工作原理、特点和适用场景;最后介绍B.。
2.选文第⑨段运用了什么说明方法?有什么作用?
3.选文第④段中的加点词“相对”有什么表达效果?
接近接触式光刻是目前器件制造中应用十分广泛的一种复制型光刻方法,在光刻分辨力相对要求低、芯片面积大、厚胶和非标基片等场景,集成电路和平板显示以外的各种器件基本以该种光刻方法为主。

1.A.光刻机的应用范围 B.光刻机的发展方向
2.列数字。准确说明了投影式光刻机精度高、结构复杂等特点。
3.“相对”是相比较的意思,起限制作用,指与其他光刻分辨力要求较高的场景相比,接近接触式光刻机更适用于光刻分辨力较低的场景,体现了说明文语言的准确性、严密性。